光刻胶的产地主要是日本、韩国和中国台湾。
光刻胶的国产化率仅为10%,半导体用光刻胶被日本企业垄断,我国仅实现g线、i线、KrF和ArF国产化,而高端市场EUV光刻胶尚处于早期研发阶段。平板显示用光刻胶,主要产地为日本、韩国和中国台湾,其中彩色光刻胶、黑色光刻胶国产化率仅为5%。
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光刻胶的产地主要是日本、韩国和中国台湾。
光刻胶的国产化率仅为10%,半导体用光刻胶被日本企业垄断,我国仅实现g线、i线、KrF和ArF国产化,而高端市场EUV光刻胶尚处于早期研发阶段。平板显示用光刻胶,主要产地为日本、韩国和中国台湾,其中彩色光刻胶、黑色光刻胶国产化率仅为5%。
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